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第一百五十二章 巨大差距（第4页）

当年516之后，漂亮国这三大EDA厂商与华为的合作已经先后终止，直接在顶层设计环节卡死。

这意味着，华为自那以后再没有获得新工具和新升级服务，但是可以继续使用华为已经购买和获得授权的EDA工具。也就是说，目前华为海思还可以采用老版本EDA做IC设计。

别以为能用老版本也相当不错...要知道的是，EDA一月更新一次，更新换代相当快捷，且内容变化不小。

随着时间的推移，时间越长，老版本的软件就越落后，长此以往下去，问题会越积越多。

可想而知，这件事对于华为的影响十分的巨大。

也能从中看出EDA软件的重要性。

而除了EDA之外，另外一个核心部分是IP核。

IP核全称为Iualproperty，中文为知识产权，具体来讲就是科技公司做好的模块，芯片设计厂商可以拿过来直接应用到芯片中。

其中，ARM就是全球领先的半导体知识产权（IP）提供商，数据显示，全球范围内有95%以上的智能手机和平板电脑均采用了ARM架构。

享誉全球的英特尔、苹果、高通、华为等巨头都需要在芯片设计环节使用ARM提供的IP核，这令ARM常年稳居行业龙头地位，在全球2019年半导体IP供应商营收排行榜中，更是以40.8%的市场份额位列第一。

这意味着，在IP核这一领域，主动权依然掌握在西方国家手中，拿华为来说，如果华为想要继续设计芯片，就必须要获得相关企业的IP授权。

如果无法获得授权，那么自研芯片根本走不到制造环节，就更没光刻机什么事了。

总结来说，EDA软件+IP核相加，才能真正的走到IC设计这个环节。

如果在EDA软件和IP核这里就被卡住，那就根本没有后续什么事了，设计都没办法进行，更别提制造了。

由此可见，想要真正实现芯片独立，我国半导体领域还需要在IP核这一核心技术上打破垄断。

林奇默默的记录着“国产芯片缺的不是设计，国内的设计能力已经不差了，差的是软件和IP授权，这是卡脖子的关键点。”

设计实力方面是有数据依据的。

拿2018年来说，我国IC设计产业的总收入超过280亿美元，增速超过25%，占到了近30%的全球IC设计的市场份额。

“第二，是光刻机。”

“事实摆在面前，国内自研的光刻机与目前市场上最先进的5nm光刻机，相差了好几代！”

“这方面也是一个被卡脖子的地方。”

最大的最先进的光刻机产商是荷兰的ASML公司。

虽然它不是漂亮国的公司，但是其在生产光刻机的过程中也需要用大量漂亮国的技术以及漂亮国的供应商

这也是为何漂亮国可以阻止ASML公司将光刻机卖给我们华夏的原因。

同样，这也是漂亮国可以阻止全球各大芯片代工厂给华夏企业生产芯片的原因。

因为这些企业所使用的，大部分都是ASML的机器。

“差距真的好大啊...”了解的越多，林奇才明白其中到底有多么难。

但越难，反而越发的激发了他的胜负欲。

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